На протяжении длительного времени ученые, проводя научные исследования магнитоэлектрического эффекта в композитных слоистых структурах, пользовались клеевой технологией для создания композиционных магнитоэлектрических структур [1].
C целью получения более качественной магнитоэлектрической структуры следует рекомендовать метод магнетронного распыления.
Магнетронные распылительные системы (МРС) позволяют распылять практически все виды материалов, в том числе материалы, которые используются в качестве компонентов для создания магнитоэлектрических структур.
В работе [2] исследованы структурные, электрические и оптические свойства тонких графитоподобных пленок, полученных на кристаллическом кремнии и кварце методом магнетронного распыления при температурах подложки в диапазоне от 320 до 620°C. Из анализа установлено, что с ростом температуры подложки происходит увеличение характерного размера кристаллитов, уменьшение концентрации структурных дефектов и содержания аморфного углерода в фазовом составе пленок.
В работе [3] методом реактивного магнетронного распыления составных мишеней были синтезированы пленки титаната железа (ильменита), при содержании кислорода до 35 % были сформированы пленки с атомарно гладкой поверхностью и резкой границей раздела пленка-подложка толщиной ~ 100 нм, состоящие из Fe2TiO4 в структуре шпинели и оксидов титана Ti3O5. Предложенная методика позволяет формировать пленки с размерами зерен 1—2 нм и регулярными порами размером ~ 3 нм.
Проведенные исследования распыления материалов, которые могут использоваться как компоненты многослойных структур, позволяют рассматривать метод магнетронного распыления в качестве перспективного способа формирования магнитоэлектрических композитов.
Библиографическая ссылка
Сыроварова К.А. ИССЛЕДОВАНИЕ ФОРМИРОВАНИЯ МАГНИТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ СТРУКТУР МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ // Международный студенческий научный вестник. – 2022. – № 6. ;URL: https://eduherald.ru/ru/article/view?id=21107 (дата обращения: 19.04.2024).